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本次网络研讨会将介绍一种利用二次离子质谱 (SIMS) 对快速热退火 (RTA) 进行常规监测的新方法。
主讲人 Jack Jiang 是恩智浦半导体公司的首席工程师,他在研发和 SIMS 应用方面拥有 30 多年的专业经验。Jack 将分享他的案例分析以回答一个关键问题: SIMS 是对 RTA 进行常规监测的理想技术吗?
主要内容包括:
- 常见 Rs 监测方法存在的问题,以及寻找替代方法的必要性
- 理解 SIMS 的基本原理,以实现良好的灵敏度、可重复性和高通量,从而提供可靠的生产支持
- SIMS 对工艺稳定性和设备产量的影响
观看视频,了解 SIMS 如何增强 RTA 监测和优化半导体制造工艺。
关于主讲人
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Jack Jiang 博士是恩智浦半导体的首席工程师。他在工程研发和 SIMS 应用领域拥有 30 年的经验,并已发表了 50 多篇关于 SIMS 基础原理和应用的论文。 |