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AKONIS 全自动二次离子质谱仪

用于半导体晶圆厂中成分测量的全自动 SIMS
AKONIS SIMS 工具通过直接在半导体生产线中提供对注入分布、成分分析和界面数据的高产量、高精度检测，填补了半导体制造工艺中的重要空白。AKONIS 有非常高的自动化水平，确保了各种工具在晶圆厂工艺控制和工具之间匹配方面的可重复性。

  • AKONIS：SIMS 为晶圆厂带去了卓越品质！ +


    除传统的通过表征实验室为半导体行业提供支持的IMS Wf/SC Ultra和 SIMS 4550（四极杆 SIMS）系列外，AKONIS作为其 补充，可实现仪器设置和采集例程的完全自动化，从而可在分析灵敏度不受影响的情况下实现快速的厂内分析。AKONIS 受益于极低冲击能量（EXLIE）离子色谱柱技术（< 150 eV）的最新发展，与带高分辨率平台的整片晶圆处理系统相结合，可在最小 20 μm 的压焊点上进行测量。

    推动实现 N5 及后继制程的高产量

    SiGe 和 SiP 多层堆叠的高分辨率成分和快速掺杂物深度剖析
    无与伦比的最小 20 μm 在压焊点上的检测限
    将数据反馈到生产线的时间缩短了 97% 以上
    光片和图案化的整片晶圆测量
    图案识别引擎与高分辨率干涉测量平台相结合，可实现 < 2 μm 的位置精度
    基于独特材料数据库的直观recipe创建
    SEMI 认证（S2/S8、E4、E5、E39、E84...）
    低购置成本

  • View Webinars +

    • Dynamic SIMS for Semiconductors

      星期四, 九月 16, 2021

      A review of a broad array of IC applications with Dynamic SIMS, from deep to ultra-shallow implant depth profiling in Si-based semiconductors to compositional analysis of thin multilayers in patterned wafer pads, optoelectronics, 2D and non-planar 3D structures. Speaker: Pawel Michałowski, expert-user of CAMECA SC Ultra SIMS at Łukasiewicz Research Network – Institute of Microelectronics and Photonics, Poland
      ↓ Duration : 20 minutes
      Click here to view

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  • 科研文章 +


    以下是部分 CAMECA AKONIS 用户发表的研究文章
    欢迎您将缺失的参考文献、PDF 文件和补充资料发送给我们！
    请发送电子邮件至 cameca.info@ametek.com

    Etching monitoring of advanced forksheet devices using AKONIS SIMS tool.     A-S. Robbes, O. Dulac, K. Soulard, M. Adier, S. Choi, D. Jacobson, A. Merkulov, R. Tilmann, P.A.W. van der Heide and A. Franquet. ISTFA Proceedings (2024)
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    AKONIS—SIMS Excellence Brought To The Fab. AS. Robbes; O. Dulac; K. Soulard; R. Liu; S. Choi; B. Salle; D. Jacobson. (2022). Conference Proceedings. Paper No: istfa2022p0396, pp. 396-397; 2 pages
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  • 视频 +

    • 利用 AKONIS SIMS 监测大批量生产环境中的蚀刻过程
      AKONIS Manufacturing and HVM https://v.youku.com/v_show/id_XNjQzMjQyNzAyNA==.html

      AKONIS SIMS 工具可在不同蚀刻速率下精确测量新型叉片三维结构中的元素浓度，在大批量制造环境中的灵敏度优于其他分析系统。

    • 利用 AKONIS 监测砷浅层植入情况
      AKONIS https://v.youku.com/v_show/id_XNjAxNTY0NjUxNg==.html

      AKONIS 自动 SIMS 工具在客户现场的剂量均匀性控制方面优于其他分析系统。在这段视频中，该工具测量出全晶片砷浅层植入物 1.2% 的不均匀性。

    • 利用 AKONIS SIMS 工具对逻辑 n-mos 生产进行 SiP 计量
      AKONIS-ep2 https://v.youku.com/v_show/id_XNjAxODM4MTk1Mg==.html

      凭借其独特的单检测器技术，AKONIS 可对硅中的浅磷植入物进行长期稳定性监测。

    • 利用 AKONIS SIMS 工具对逻辑 p-mos 进行 SPC 分析
      https://v.youku.com/v_show/id_XNjAwODU3MjI2OA==.html

      由于采用了成熟的单检测器技术，AKONIS 自动 SIMS 工具可确保在客户现场对 SiGe 中的硼进行无与伦比的长期稳定监测。

    • AKONIS, SIMS 为晶圆厂带来了卓越。
      AKONIS Chinese

      一种全自动半导体计量工具，能够监控高级逻辑芯片中的注入剂量、控制晶体管源极和漏极中的掺杂水平、在图案化硅晶片上的 20 µm 测试焊盘内进行成分分析等。