锡铜导线结构的小区域分析(SIMS)

Small area analysis in Sn Cu wire structure with SIMS
CAMECA IMS 7f-Auto提供高(亚微米)横向分辨率,这对材料分析具有重要意义。其卓越的成像能力适用于各种材料的研究:多晶样品中的扩散现象、合金中的表面成像分析……

在离子成像中,有两种操作模式可供选择:
  • 采用直接离子成像(“显微镜”)模式获取图像的速度可比任何扫描离子探针(并行采集所有像素)快达数千倍。针对«大»区域成像进行优化。
  • 扫描离子图像(“探针”)模式具有亚微米横向分辨率,并使用O2+和Cs+电子束。专用于小区域分析。   

小区域分析:深度和横向信息。
锡铜导线结构的小区域分析:使用探针模式获取不同物种的图像(左侧)。
使用CAMECA WinImage软件,可获得回顾性深度分布:上述例子从离子图像(中心区域,左侧)中获得深度分布图(右侧),这些图像是在溅射深度剖析时按顺序记录的。注意成像模式下的高动态范围。