材料表征技术各有优劣。通过将二次离子质谱（SIMS）与原子探针层析成像（APT）等互补技术协同应用，可放大这些技术的优势——从而实现单一技术无法实现的发现。本文将从样品制备到数据处理，系统梳理每种技术的标准流程与前沿技术，并探讨互补技术的应用实例。
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关于主讲人
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Robert Ulfig 自 2001 年起在麦迪逊市 CAMECA 公司从事原子探针显微镜相关工作。他目前致力于将内外客户的需求与活动整合到 CAMECA 最先进软硬件系统中，同时开发新应用领域与市场。Robert 毕业于威斯康星大学麦迪逊分校，获材料科学、核工程及工程物理学学位。 |